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      康奈尔大学等研发AlN半导体技术获美国DARPA资助

      发布时间:2024-09-05 17:39:12  浏览量:2

      据technology 9月5日报道,氮化铝(AIN)是一种很有前途的下一代半导体材料,但技术挑战限制了它的广泛应用。康奈尔大学的研究人员与佛罗里达州的科技公司 Lit Thinking 合作,近日在美国国防高级研究计划局 (DARPA) 的资助下,致力于克服其中一些关键限制。

      康奈尔大学牵头的项目将专注于开发具有极低导通电阻的氮化铝基PIN二极管,以降低大功率应用中的功率损耗和热量产生。“由于氮化铝通常是一种极好的电绝缘体,因此使其具有导电性,是利用其惊人特性的关键。”首席研究员、电气和计算机工程系 David E. Burr 教授 Debdeep Jena 说道。“在这个 DARPA 项目中,我们的跨学科团队正在研究几种新想法,以释放这种超宽带隙半导体的潜力。”

      该拨款是 DARPA 微系统技术办公室超宽带隙半导体项目的一部分,该项目旨在开发用于各种商业应用的材料,包括用于雷达和通信系统的高功率射频设备、用于电力电子的高压开关、用于极端环境的高温电子设备和传感器,以及深紫外发光二极管和激光器。

      (编译:雅慧)

      链接:

      关键词: darpa 半导体技术 康奈尔大学

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